2014年6月20日，北京東方中科集成科技股份有限公司（簡稱東方集成）攜手德國SENTECH儀器公司（簡稱SENTECH）在中國科學院上海微系統與信息技術研究所成功舉辦等離子工藝技術研討會（上海）。
作為德國SENTECH儀器公司在中國地區的總代理，東方集成與SENTECH公司有超過10年的合作歷史，近年來在半導體、材料分析、光伏等研發和生產領域均有突破性進展。本次研討會為SENTECH和東方集成首次針對等離子工藝技術主題舉辦的研討會，吸引了全國眾多科研院校和企事業單位的用戶參加會議，反響熱烈。
東方集成根據用戶關心的熱門話題，就深硅刻蝕工藝與MEMS應用、PECVD/ICPECVD沉積高質量介質膜、ALD原子層沉積的應用和在線監控、刻蝕工藝和薄膜沉積的在線監控和終點監測、光譜橢偏儀進行復雜材料分析等議題與用戶進行了深入淺出的交流，來自中科院微電子所和微系統所的老師們也同大家分享了SENTECH設備在太赫茲器件上低溫沉積薄膜和III-V族半導體刻蝕的一些使用經驗。SENTECH專利的高等離子密度平板三螺旋天線ICP源、高精度樣品動態控溫、低溫深硅刻蝕等技術亮點和出色的工藝效果給現場觀眾留下了非常深刻的印象。
研討會結束后，參會人員參觀了微系統所太赫茲固態技術重點實驗室，部分參會人員使用SENTECH SI 500D ICPECVD進行了實際操作和樣品制備。SI 500D可在80℃至130℃范圍低溫沉積高性能薄膜，低溫低損傷沉積可用于帶膠沉積的剝離工藝，高擊穿電壓和低氫含量薄膜可作為非常出色的絕緣層，參會人員對結果表示非常滿意。
作為電子測試測量領域領先的綜合服務商，東方集成總部設在北京，在上海、南京、蘇州、深圳、武漢、西安、成都等地設有分支機構，憑借覆蓋全國的營銷服務網絡和一流的技術服務團隊，可為全國各地客戶提供快速響應、高質量的本地化技術服務。
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