導(dǎo)讀：有分析師警告，ASML柏林廠火災(zāi)可能拉長(zhǎng)全球芯片短缺的持續(xù)時(shí)間。

　　芯片大師昨日?qǐng)?bào)道2022第一把火，燒到了ASML光刻機(jī)工廠，盡管官方目前尚無(wú)明確損失及對(duì)供應(yīng)鏈影響產(chǎn)生，但有分析師警告，這起意外可能拉長(zhǎng)全球晶片短缺持續(xù)時(shí)間。

　　據(jù)TrendForce初步了的解，占地32,000平方米的柏林廠區(qū)中，約200平方米廠區(qū)受火災(zāi)影響。

　　而該廠區(qū)主要制造光刻機(jī)中所需的光學(xué)相關(guān)零組件，例如晶圓臺(tái)、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤處于緊缺狀態(tài)。目前該廠零組件以供應(yīng)EUV機(jī)臺(tái)較多，且以晶圓代工的需求占多數(shù)。

　　若屆時(shí)因火災(zāi)而造成零組件交期有所延后，不排除ASML將優(yōu)先分配主要的產(chǎn)出支援晶圓代工訂單的可能性。

       由于晶圓代工產(chǎn)能短缺，ASML正產(chǎn)能全開(kāi)運(yùn)轉(zhuǎn)。路透社指出，該公司任何的出貨延遲，都可能沖擊正試著提高產(chǎn)能的晶圓廠客戶。ASML是全球唯一的EUV先進(jìn)制程設(shè)備供應(yīng)商，在成熟制程的DUV設(shè)備市場(chǎng)，則有日本Nikon等對(duì)手。

　　彭博資訊分析師指出，ASML柏林廠生產(chǎn)微影設(shè)備的關(guān)鍵零組件，若該公司出貨量因?yàn)檫@起意外減少10%，可能導(dǎo)致全球微影工具的供應(yīng)減少約8.4%，因?yàn)锳SML在這塊市場(chǎng)的市占率為84%，可能拉長(zhǎng)全球芯片荒的持續(xù)時(shí)間。

　　晶圓代工方面，EUV主要使用于7nm以下的先進(jìn)制程制造。目前全球僅臺(tái)積電(TSMC)與三星(Samsung)使用該設(shè)備進(jìn)行制造，包括TSMC 7nm、5nm、3nm制程工藝，三星于韓國(guó)華城的EUV產(chǎn)線(7nm、5nm及4nm)以及3nm GAA制程工藝等。

　　不過(guò)，受到全球晶圓代工產(chǎn)能緊缺、各廠積極擴(kuò)廠等因素影響，半導(dǎo)體設(shè)備交期也越拉越長(zhǎng)，成為光刻機(jī)供應(yīng)外的另一個(gè)短板。

圖：?jiǎn)蝺r(jià)超6億元的NXE:3350B EUV光刻機(jī)

　　DRAM方面，目前三星及SK海力士(SK hynix)已使用在1Z nm及1 alpha nm制程上，美光(Micron)則預(yù)計(jì)于2024年導(dǎo)入EUV于1 gamma nm制程。

　　目前，ASML EUV設(shè)備的交期落在約12~18個(gè)月，也因?yàn)樵O(shè)備交期較長(zhǎng)，ASML有機(jī)會(huì)在設(shè)備組裝時(shí)間等待該工廠所損失的相關(guān)零組件重新制造完成。

　　整體而言，ASML德國(guó)柏林工廠火災(zāi)對(duì)晶圓代工及存儲(chǔ)器而言，將可能對(duì)EUV光刻機(jī)設(shè)備制造產(chǎn)生較大影響。而根據(jù)TrendForce的消息掌握，ASML所需的零組件亦不排除通過(guò)其他廠區(qū)取得，加上目前EUV設(shè)備交期相當(dāng)長(zhǎng)，因此，實(shí)際對(duì)EUV供應(yīng)的影響有可能被時(shí)間稀釋。