據外媒消息，近日，三星電子將本土公司東進世美肯半導體開發的用于高科技工藝的極紫外 (EUV) 光刻膠引入其量產生產線，據悉，這是三星進行光刻膠本土量產的首次嘗試，此前，韓國的光刻膠需求高度依賴于日本及從其它國家進口。

　　公開資料顯示，光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射后，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，主要應用于積體電路和分立器件的細微圖形加工。

　　外媒消息顯示，東進世美肯半導體的光刻膠在去年通過了三星電子的可靠性測試，距今不到一年就被應用于大規模生產線。目前，除了東進世美肯外，韓國本土企業永昌化學和SK材料性能也在開發光刻膠，但它們還沒有達到可靠性驗證的水平。

　　光刻膠產業有著極高的行業壁壘。首先它對樹脂和感光劑等原材料要求較高，并且制作技術壁壘高，在研發和量產上都需要企業的長期技術積累。此外在產品送樣前，光刻膠生產商還需要購置光刻機用于內部配方測試，根據驗證結果調整配方。

　　根據曝光波長的不同，光刻膠可以分為g線、i線、KrF、ArF以及EUV光刻膠5大類別，其中g線、i線一般用于250nm以上工藝，KrF、ArF和EUV光刻膠屬于高端光刻膠，KrF一般用于250nm-130nm工藝，ArF一般用于130nm-14nm工藝，EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。

　　我國光刻膠市場格局

　　從整體業態來看，全球光刻膠市場高度集中，日本和美國企業把控著市場絕大部分市場份額。尤其是日本的JSR、TOK、信越化學、住友化學以及富士膠片四家企業便占據了超過全球80%左右的市場份額，且側重中高端光刻膠布局，壟斷地位穩固。

　　從我國光刻膠情況看，國產光刻膠產品主要集中在g/i線市場，同時廠商也在不斷發力KrF、ArF等高端光刻膠領域，并獲得了一定突破。

　　在KrF光刻膠領域，北京科華和徐州博康已具備批量供貨能力，此外晶瑞電材11月末消息顯示，高端KrF光刻膠已完成中試，上半年KrF光刻膠生產及測試線已經基本建成，爭取今年批量供貨。上海新陽8月透露，光刻膠驗證工作還在進展中，KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。

　　ArF光刻膠主要用于ArF準分子激光光源的DUV光刻機的光刻工藝當中，是重要的光刻膠品類之一，國內廠商正處于技術開發或客戶驗證中。如南大光電11月消息顯示，其193nm Arf光刻膠已通過兩家客戶驗證，上海新陽ArF光刻膠則處于驗證階段。

　　EUV光刻膠主要用于7nm及以下先進制程的光刻工藝，國內廠商EUV光刻膠處于早期研發階段，涉足企業包括上海新陽等。

　　隨著全球半導體增產擴能的繼續，半導體產業鏈上游的半導體材料將持續受益，未來全球光刻膠市場增長勢頭明顯。此外，隨著各國自研加速，全球光刻膠市場格局或將迎來變革。