同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”
此前，荷蘭方面在3月8日表示，計劃對半導體技術出口實施新的管制。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。
ASML聲明如下：
荷蘭政府于今日發布了有關即將出臺的半導體設備出口管制措施的進一步的信息。這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。
由于該等即將出臺的法規，ASML將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統。
這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。
基于今日的公告、我們對荷蘭政府許可證政策的預期以及當前的市場形勢，我們預計這些管制措施不會對我們已發布的2023年財務展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產生重大性影響。
需要重點指出的是：新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。盡管我們尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統。
此外，我們要指出，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最后，ASML的長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。
自2019年以來，ASML的EUV光刻系統已經受到限制。
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