一、ASML能供應的光刻機并非無可替代

　　ASML的態度其實一直都在左搖右擺，早在多年前ASML就已在事實上停止對中國供應EUV光刻機，中芯國際支付了1.2億美元的EUV光刻機至今都未交貨，不過當時ASML還能持續對中國供應技術先進的DUV光刻機。

　　中國市場也給了ASML巨大的回報，2021年和2022年一季度中國市場就為ASML貢獻了三分之一的收入，然而到了2022年下半年，在美國的要求下，ASML已停止對中國供應14納米以下的DUV光刻機，中國市場也對此做出了反應。

　　2022年下半年一家中國芯片企業招標27臺光刻機，其中21臺給了日本企業，6臺則交給了國內的光刻機企業，顯示出在ASML追隨美國腳步后，中國的芯片企業已做出了抉擇，而ASML從中國市場獲得的收入占比也迅速降低至10%。

　　從上述消息可以看出，在先進的EUV光刻機之外，中國產的光刻機和日本光刻機都可以替代ASML，而隨著ASML跟隨美國不斷加碼，中國芯片行業為了避免受制于ASML已在悄悄地減少采購ASML的光刻機。

　　二、國產光刻機在加速發展

　　中國芯片行業其實同樣認識到日本的光刻機供應也不可靠，為此中國一直都在力推自己的光刻機產業發展，至如今中國的光刻機已取得了長足的發展。

　　哈爾濱工業大學、華為等企業或機構都先后公布了先進的光刻機技術，還有眾多國內的光刻機產業鏈在加快各個光刻機部件的研發，28納米光刻機已得到技術驗證，或許今年內國產28納米光刻機就將量產，而28納米光刻機通過多重曝光技術可以實現14納米工藝。

　　中國的光刻機技術其實有一定的基礎，國產的后道光刻機已在國內市場占據優勢，據稱國產的后道光刻機占據國內市場的份額高達八成，在全球市場也占有四成的市場份額，隨著更多企業或機構加入研發光刻機技術，國產的先進光刻機量產將不會太遙遠了，知名經濟師林毅夫就表示估計最快3年時間就能見到國產的先進光刻機。

　　目前國內力推的是28納米工藝，國內最大的芯片制造企業目前推進的4座工廠都是28納米工藝，成熟工藝能滿足國內七成的芯片需求，如此已買到的光刻機以及國產光刻機能滿足這些成熟工藝需求，對ASML的需求不會太強烈。

　　中國的成熟工藝對ASML的光刻機需求不強烈，而ASML又無法對中國銷售先進的光刻機，ASML期望今年對中國銷售100臺光刻機恐怕難以實現，如果失去中國這個龐大的市場，在當下的全球芯片市場寒冬中，ASML說不定會冷得瑟瑟發抖，到了那時候它或許會考慮如何繞開美國的限制對中國芯銷售先進的光刻機吧。