中國芯片設備新突破！國產離子注入機實現28nm工藝制程全覆蓋
時間：2023-07-13
來源：快科技
導語：6月30日訊，據國資委官微，中國電科旗下電科裝備已實現國產離子注入機28納米工藝制程全覆蓋，有力保障我國集成電路制造行業在成熟制程領域的產業安全。
據悉，離子注入機是芯片制造中的關鍵裝備，當前，28納米是芯片應用領域中覆蓋面最廣的成熟制程。
新華社介紹，在芯片制造過程中，需要摻入不同種類的元素按預定方式改變材料的電性能，這些元素以帶電離子的形式被加速至預定能量并注入至特定半導體材料中，離子注入機就是執行這一摻雜工藝的芯片制造設備。
此次，電科裝備連續突破光路、控制、軟件等關鍵模塊的核心技術，形成中束流、大束流、高能及第三代半導體等全系列離子注入機產品格局，實現了28納米工藝制程全覆蓋。
如今，電科裝備的百臺設備廣泛應用于國內各大集成電路先進產線，累計流片2000萬片。
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