而基于當前大家都懂的外部形勢，要想真正的減少進口，提高自給率，其實要求是國內(nèi)半導體供應鏈能夠崛起，特別是半導體設備，能夠達到先進工藝，這樣才不會被卡脖子。

　　那么問題就來了，目前所有國產(chǎn)半導體設備中，究竟哪一種是最落后的，最需要突破的?其實最落后的，就是大家最熟悉的光刻機。我們知道芯片制造過程中，工序特別多，需要的半導體設備也特別多，但主要可以分為三個主要步驟，那就是單晶硅片制造、前道工序、單晶硅片制造就是把砂子變成晶圓的過程，這一塊目前國內(nèi)有300mm的晶圓，可以用于10nm以下，所以這一塊的國產(chǎn)設備，并不落后。

　　而前道工序這里有8個主要流程，分別是擴散、薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入、CMP拋光、金屬化、測試，所以至少有8種關(guān)鍵設備。這8種關(guān)鍵設備里面，只有國產(chǎn)光刻機目前還在90nm，其它的設備大多到了28nm，甚至14nm的程度，有些甚至到了5nm，3nm，比如刻蝕機。而后道工序主要是指封測這一塊，目前國內(nèi)有三大廠商，早就到了5nm，基本上國內(nèi)也是處于全球先進水平的?？梢姡C合起來看，真正最拖后腿的就是國產(chǎn)光刻機了，還在90nm，而芯片制造是遵循短板理論的，能夠制造多少nm的芯片，取決于最落后的那一環(huán)，所以光刻機必須突破，所以永遠拖后腿，嚴重阻礙國產(chǎn)芯片的崛起了。

　　2021年中國光刻機現(xiàn)在納米精度達到多少，依據(jù)現(xiàn)有公開的為90納米，對于65nm光刻機進行整機考核，目前小編還沒聽聞相關(guān)消息，不過對于國內(nèi)來說，光刻機的路程還是有一段路要走的，對于光刻機所搭配的ups不間斷電源或?qū)ps電源用于相關(guān)場所的話，是可以直接咨詢我們優(yōu)比施廠家提供完善解決方案。

　　目前，中國光刻機主要包括上海微電子設備有限公司、中子技術(shù)集團公司國電，第45研究院，以及芯碩，合肥半導體有限公司、先騰光電科技、無錫影速半導體科技。

　　其中，上海微電子設備有限公司量產(chǎn)了90nm，這是中國最先進的技術(shù)，國家重大科技項目65nm光刻機，正在研發(fā)中，整機正在考核中。

　　對于光刻機技術(shù)來說，90納米是一個技術(shù)步驟;45納米是一個技術(shù)步驟;22納米是一個技術(shù)步驟.把90納米的技術(shù)升級到65納米并不難，但是45納米比65納米難多了。

　　我們要一步一個腳印的走下去，中國16個重大專項中的02專項提出，到2020年光刻機要達到22nm。目前主流是45nm，而32nm和28nm都需要在深紫外光刻機上進行改進和升級

　　光刻機的固態(tài)深紫外光源也正在研究和開發(fā)中。光刻機在中國的研發(fā)是并行的，22納米光刻機使用的技術(shù)也在研發(fā)升級45納米。

　　中國28納米光刻機最新進展：

　　由于長期的技術(shù)封鎖，我們的軍用芯片大部分都是自己做的。這條新聞清楚地告訴公眾一個常識。我們擁有全套的軍用芯片制造設備和制造技術(shù)。我們知道如何制造芯片，我們也有自己的光刻機光刻機不是空白!全國人民可以放心，我們目前的缺點是民用芯片的設備和制造。

　　以前只是因為市場和成本，民用產(chǎn)品都是用進口設備做的!光刻機，芯片制造的核心設備，已經(jīng)成為國內(nèi)半導體發(fā)展的絆腳石。

　　目前最高端的光刻機來自荷蘭ASML，幾乎壟斷了整個市場?，F(xiàn)在供不應求，一年只能生產(chǎn)30多臺。當全球缺芯危機來臨時，行業(yè)巨頭臺積電和三星直接壟斷了7nm芯片業(yè)務，因為他們擁有荷蘭ASML的EUV光刻機。

　　雖然短期內(nèi)局限于民用芯片領(lǐng)域，但我們要擔心的是，手機、電腦等民用芯片的制造和生產(chǎn)只是時間問題!

　　前段時間，央視也報道了一個好消息。國內(nèi)首款高能光源機也已進入安裝調(diào)試階段。該設備由中國科學院高能物理研究所自主研發(fā)，可以說突破了這種高能輻射光源在安裝應用中的諸多難題。毫不夸張地說，我們不缺資金、不缺人才、不缺精神、只缺一點時間。

　　從目前我們的掩模對準器和民用芯片的制造速度來看，我們已經(jīng)開始實施研發(fā);所有方面的項目。目前28nm掩模對準器已經(jīng)成功，可以滿足中國80%以上的芯片應用至于軍用芯片，我們可以100%滿足自己的需求。民用芯片大規(guī)模爆炸只是時間問題!

　　近來國際局勢風起云涌，以美國為首的西方國家不斷炮制涉華謠言，粗暴干涉中國內(nèi)政。前不久美國芯片大廠英特爾公開站隊，與滿嘴謊言的美國政府為伍。這一“吃中國飯還砸中國碗”的無恥行徑立即在我國社交媒體上掀起軒然大波，英特爾代言人王俊凱通過工作室發(fā)表聲明，宣布即日起終止與英特爾品牌的一切合作，獲得輿論力挺;各大社交媒體上針對英特爾的譴責聲音層出不窮，引來外媒關(guān)注。正如網(wǎng)友所言，英特爾占據(jù)的壟斷地位使得現(xiàn)階段我們無法真正對其進行抵制，關(guān)鍵還是在芯片領(lǐng)域，我國仍需不斷努力。

　　此前在本月中旬，我國一企業(yè)官宣好消息，發(fā)布公告稱已經(jīng)到位5臺光刻機。那么這些光刻機能發(fā)揮什么作用呢?中國芯能否實現(xiàn)“逆風翻盤”?眾所周知，光刻機是制造芯片的重要設備，其種類也非常多。根據(jù)應用領(lǐng)域不同，可作用于芯片光刻，封裝等等。光刻機的主要作用是對光刻膠進行曝光測試，提升產(chǎn)品品質(zhì)。

　　正如上述所言，光刻膠對于我國半導體產(chǎn)業(yè)而言至關(guān)重要，光刻膠是芯片生產(chǎn)過程中不可或缺的材料，也是影響芯片制程工藝的關(guān)鍵因素。和光刻機一樣，我國光刻膠長期受制于人，嚴重依賴日本和美國企業(yè)輸送，這對于我國芯片產(chǎn)業(yè)而言，是不容忽視的隱患。正是因為明白這一點，在國家大力扶持半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的情況下。我國半導體材料供應商不斷提升對光刻膠的重視程度，在部分細分領(lǐng)域，國產(chǎn)光刻膠品質(zhì)已達全球第一梯隊，具備國產(chǎn)替代的能力。