開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機

時間：2023-05-18

來源：全球半導體觀察

導語：知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV(極紫外光刻機)，以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。

       知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV(極紫外光刻機)，以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。

　　日本經濟產業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產先進存儲芯片。

　　今日(周四)，日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團，而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。

　　自2013年以來，美光已經在日本投資超過130億美元，其中包括去年宣布的1-β存儲芯片。而最新的投資將幫助美光在日本生產所謂的1-γ芯片，這是美光計劃在2024年底推出的更先進技術。

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